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半导体前端工艺技术发展现状与展望（上）

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65nin工艺很快将迎来实用化阶段，并将开始解决45nm提出的挑战，积极进行着其支撑工艺与生产设备的技术开发。本文为Selete(Semiconductor Leading-edge Technologies Inc．)专家对半导体前端工艺技术的现状与未来的看法。

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来源
《电子产品世界》 |2004年第11A期|P.118-120|共3页
作者

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作者单位

无;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类闭路电视系统（有线电视网）;
关键词
前端; 半导体; 看法; 实用化; 阶段; 生产设备; 发展现状; 展望; 技术开发; 工艺技术;

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