0.1 μm线宽主流光刻设备——193 nm(ArF)准分子激光光刻

著录项

• 来源
  《电子工业专用设备》 |2002年第1期|27-31|共5页
• 作者

  陈兴俊; 胡松; 姚汉民; 刘业异;

  展开▼
• 作者单位

  中国科学院光电技术研究所,四川成都,610209;

  中国科学院光电技术研究所,四川成都,610209;

  中国科学院光电技术研究所,四川成都,610209;

  中国科学院光电技术研究所,四川成都,610209;

  展开▼
• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜;
• 关键词

  光学光刻; 光刻设备; 193 nm光刻;