国外VLSI等离子蚀刻设备的现状及发展趋势

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机译：高级等离子体蚀刻处理：用于纳米级设备的原子层蚀刻

机译：VLSI技术中用于介电材料的高级等离子蚀刻工艺。

机译：关于等离子体处理的历史以及具有两个现代设备的历史性高频等离子体设备的抑菌效果比较

机译：使用电感耦合等离子体与半导体蚀刻设备中AR等离子体参数的RF阻抗的相关性

机译：用于VLsI（超大规模集成）应用的耐火浇口的等离子蚀刻。

机译：等离子体蚀刻设备，等离子体蚀刻方法和半导体器件制造方法，包括等离子体蚀刻方法

机译：半导体设备生产过程中等离子体蚀刻室压力的测量方法和半导体设备生产过程中等离子体蚀刻室压力和蚀刻效率的同步测量方法无效

机译：用于部件的等离子蚀刻设备的制造方法以及用于等离子蚀刻设备的部件