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300mm硅片双面抛光机的优化设计

         
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首先介绍了抛光机的抛光原理,针对传统抛光机的不足,提出了新的改进措施:在传动结构上,采用了齿圈太阳轮同步升降及销齿传动,避免在加工过程中长期在同一高度位置啮合,导致齿圈太阳轮局部磨损而造成使用寿命快速缩短的现象,提高了零件的接触刚度和使用寿命；在上下抛光盘温度控制方面,上下抛光盘采用多个进水口与出水口的结构,能在最短的时间内达到冷却的效果；在压力控制方面,采用多段压力,拉力传感器检测工件受力,并将信号反馈给控制单元构成压力的闭环控制；在控制方面,采用多点温度监测,严格地控制抛光液的进液温度；在电气系统方面,采用PLC控制,当参数设定有误或运转出现异常时,NT会自动列项报警,并提示操作者如何排除故障.最后对改进措施进行了试验验证,并对试验结果进行了分析.结果表明:通过上述改进措施使得设备加工出的硅片GBIR、SFQR等参数均达到了工艺要求,从而有效地改善硅片的平整度.

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