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余华; 崔云; 申雁鸣; 齐红基; 邵建达; 范正修;
中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;
中国科学院,研究生院,北京,100049;
LaF3薄膜; 沉积温度; 晶体结构; 折射率; 残余应力; 激光损伤阈值;
机译:LaCl3浓度和退火温度对化学浴沉积技术制备的LaF3 /多孔硅结构的二极管理想因子的影响
机译:掺杂剂和沉积温度对使用喷雾热解沉积的染料敏化新型纳米γγZn×Sn Y Z薄膜光学和固态性能的影响“
机译:沉积温度对电沉积氧化亚铜薄膜关键光电性能的影响
机译:沉积温度对脉冲激光沉积VO_2薄膜和纳米结构的生长和性能的影响
机译:晶粒尺寸和薄膜形态对溶液沉积碲碲镉超薄膜太阳能电池性能的影响。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:沉积温度对化学浴沉积法制备的硫化铜铋(CuBis2)薄膜结构,光学和电学性能的影响
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响
机译:高灵敏度LaF3薄膜的制备方法由此制备的高灵敏度LaF3薄膜和包括该薄膜的传感器
机译:使用能提高薄膜的电性能和沉积性能可靠性的源喷射器形成原子层沉积设备的薄膜的方法
机译:薄膜沉积装置及其制造方法,使沉积的材料在不需要的方向上进行辐照,因为隔膜的温度和设定的温度分别是一定的,所以这种薄膜材料被用于膜片组件
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