用光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版

著录项

• 来源
  《强激光与粒子束》 |2002年第1期|129-133|共5页
• 作者

  张新宇; 汤庆乐; 张智; 易新建; 裴先登;

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• 作者单位

  华中科技大学,计算机学院外存储系统国家专业实验室,湖北,武汉,430074;

  中国船舶重工集团,华中光电技术研究所,湖北,武汉,430074;

  华中科技大学,光电子工程系,湖北,武汉,430074;

  华中科技大学,光电子工程系,湖北,武汉,430074;

  华中科技大学,计算机学院外存储系统国家专业实验室,湖北,武汉,430074;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜;
• 关键词

  芯片模版; 离子束蚀刻; 光刻;