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陈玉和; 张院生; 杨立森; 张宝光; 陈宝东; 陆改玲;
内蒙古师范大学物理与电子信息学院,呼和浩特,010022;
集宁师范高等专科学校物理系,集宁,012000;
二次干涉法; LiNbO3; Fe晶体; 准周期结构; 光子晶格;
机译:LiNbO3:Fe晶体中通过干涉掩模法形成3D光栅
机译:锗基二维三角晶格和方形晶格以及十边形准周期光子晶体的光子带隙比较研究
机译:准周期超材料光子超晶格的等离激元-极化子隙中的二次谐波生成
机译:周期性和准周期性结构的Talbot效应:在3D准晶体光子晶格形成中的应用
机译:图案集成干涉光刻:具有集成功能元件的光子晶体晶格的单曝光形成。
机译:一维光子晶体波导中的慢光双峰干涉测量法
机译:有序材料中的对称性破裂:磁化非中心对称1D光子晶体中的自旋偏振光传输,光子间隙和干涉光刻制备准周期结构材料
机译:光子晶体腔中的干涉效应
机译:用于在漆膜上切割纳米结构的设备和系统,以及在塑料膜或薄膜上或暴露于紫外线的情况下,可以在这些表面上涂覆的漆和墨的任何表面,这些漆和墨会在其表面重现衍射晶格,全息图,微透镜,干涉滤光片和光子晶体。
机译:用于曝光系统的掩模具有遮光区域,该遮光区域包括具有晶格常数的光子晶体,其中,晶格常数与光的波长之比是在光子晶体的带隙内的比值。
机译:用于将电磁辐射耦合到例如光纤中的光学干涉装置。三维光子晶体,具有对准的耦合结构,因此场输入会在预定义的干扰样本中受到干扰
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