Pt纳米粒子辅助化学刻蚀制备硅减反射层

耿学文; 李美成; 尚春宇

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Pt纳米粒子辅助化学刻蚀制备硅减反射层

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制备高效硅太阳能电池,需要在整个太阳光谱范围内进行有效陷光和保持低反射率。基于贵金属粒子湿法辅助刻蚀方法,在P型（100）单晶硅表面溅射了一层厚度为1～5 nm的非连续分布Pt粒子层作为催化剂,浸入HF/H2O2的水溶液中进行湿法刻蚀,制备的减反射层在300～800 nm入射光波段范围的平均减反射率低于7%,减反射效果明显优于传统的热碱溶液刻蚀单晶硅所得的织构。通过进一步优化工艺参数,并增镀SiNx等减反射膜,陷光效果将会进一步提高。研究结果为高效太阳能电池的设计提供了新思路。

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来源
《红外与激光技术》 |2010年第6期|1096-1099|共4页
作者
耿学文; 李美成; 尚春宇;
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作者单位

1. 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院 2. 华北电力大学可再生能源学院;

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正文语种 chi
中图分类太阳能电池;
关键词
硅衬底; 减反射层; 纳米粒子; 催化剂;

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