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宋立媛; 唐利斌; 姬荣斌; 陈雪梅; 李雄军;
昆明物理研究所,云南,昆明,650223;
退火; ZnO:Al薄膜; X-射线衍射(XRD); 原子力显微镜(AFM);
机译:SiO_2缓冲层对钠钙玻璃上Al掺杂ZnO薄膜电学和结构性能的影响
机译:氧气压力对全固态电致变色器件中用作透明电极的脉冲激光沉积制备的Al掺杂ZnO薄膜的电,光学和结构性能的影响
机译:后热温度对溶胶-凝胶法制备Al掺杂ZnO薄膜结构,光学和电学性质的影响研究
机译:Al掺杂ZnO薄膜的电气和结构性能
机译:退火温度对Sol-Gel ZnO薄膜力学性能的影响。
机译:NIR退火对RF溅射Al掺杂ZnO薄膜特性的影响
机译:远程等离子体增强金属有机化学气相沉积法生长Al掺杂ZnO薄膜过程中电学和结构性能的演变
机译:热退火铜箔表面形貌及石墨烯转移方法的研究。
机译:制备Al掺杂的ZnO薄膜的方法
机译:含ZnO薄膜生长的原始材料供应源,生产含ZnO薄膜的装置和方法以及包括ZnO薄膜的发光元件
机译:变更影响研究支持程序,变更影响研究支持设备和变更影响研究支持方法
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