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压印法集成电路光刻技术

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本项目提出一种创新的集成电路（IC）制造工艺路线，即压印光刻技术，并对该技术相关的压印和脱模工艺机理、紫外光固化阻蚀胶材料物化和工艺特性、与IC制造其它工艺的综合集成和优化、压印光刻设备的关键技术等进行研究和技术开发。

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来源
《创新科技》 |2007年第6期|61-61|共1页
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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
光刻技术; 集成电路; 压印法; 工艺路线; IC制造; 紫外光固化; 工艺机理; 工艺特性;

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