纳米压印光刻技术--下一代批量生产的光刻技术

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• 来源
  《电子工业专用设备》 |2004年第7期|3-9|共7页
• 作者

  R.Pelzer; P.Lindner; T.Glinsner; B.Vratzov; C.Gourgon; S.Landis; P.Kettner; C.Schaefer;

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• 作者单位

  EV Group, DI Erich Thallner Strasse 1, A-4780 Schaerding;

  EV Group, DI Erich Thallner Strasse 1, A-4780 Schaerding;

  EV Group, DI Erich Thallner Strasse 1, A-4780 Schaerding;

  AMICA, AMO GmbH, Huysensweg 25, D-52074 Aachen;

  Laboratoire des Technologies de la Microelectronique-CNRS, 17 R.des Martyrs,F-38054 Grenoble Cedex;

  CEA-LETI, 17 R.des Martyrs, F-38054 Grenoble Cedex;

  EV Group, DI Erich Thallner Strasse 1, A-4780 Schaerding;

  EV Group, DI Erich Thallner Strasse 1, A-4780 Schaerding;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜;
• 关键词

  纳米压印技术; 热压印; 紫外压印; 电铸光刻;