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纳米压印光刻技术及其设备研制

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本文介绍了热压印技术的工艺流程、设备研制等,从成本、生产能力等方面探讨了其作为标准生产技术所面临的挑战.介绍了使用具有100nm特征尺寸的5cm×5cm面积Cr模版在PMMA胶上的压印实验结果和试验装置.

著录项

来源
《中国微米纳米技术第七届学术年会》|2005年|398-400|共3页
会议地点大连
作者
董晓文; 中国科学院研究生院; 司卫华; 中国科学院研究生院; 顾文琪; 中国科学院研究生院;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;特种结构材料;
关键词
纳米压印光刻技术; 热压印; 纳米结构; 模版;

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