赝火花脉冲电子束烧蚀制备纳米薄膜

韩丽君; 江兴流; 文雄伟

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赝火花脉冲电子束烧蚀制备纳米薄膜

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类似于脉冲激光束烧蚀法制备薄膜,利用纳秒赝火花脉冲电子束与靶材料相互作用,通过靶材料的瞬间熔化、蒸发或以团簇抛出的方式,在低温衬底上重新成核、凝结,得到了与靶材的化学计量比相同的薄膜.讨论了材料烧蚀和沉积过程中出现的诸多现象,并给出高分辨电子显微镜、X射线衍射、光电子能谱分析等方法的测试结果.研究表明,由于赝火花脉冲电子束高功率密度 (109 W/cm2 )的瞬态烧蚀作用,为研究和制备多元素氧化物薄膜、难熔金属多层膜或氧化物/金属多层膜提供了一种新手段.

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来源
《航空材料学报》 |2002年第2期|24-28|共5页
作者
韩丽君; 江兴流; 文雄伟;
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作者单位

北京航空航天大学,材料科学与工程系,北京,100083;

北京航空航天大学,理学院,北京,100083;

北京航空航天大学,理学院,北京,100083;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
纳秒脉冲电子束; 纳米薄膜; 烧蚀法;

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