多光束无掩模光刻系统

著录项

• 来源
  《应用光学》 |2010年第4期|537-539|共3页
• 作者

  沈易; 吴翌旭; 邢燕冰; 周成刚;

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• 作者单位

  上海科学院集成电路制造装备研究中心;

  上海;

  201203;

  上海科学院集成电路制造装备研究中心;

  上海;

  201203;

  上海科学院集成电路制造装备研究中心;

  上海;

  201203;

  上海科学院集成电路制造装备研究中心;

  上海;

  201203;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 设计;
• 关键词

  无掩模光刻; 多光束光刻; 波带片阵列光刻; DMD;