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首页> 中文期刊> 《长春理工大学学报（自然科学版）》 >离子束溅射Lan-WDM滤光膜膜厚均匀性的研究

离子束溅射Lan-WDM滤光膜膜厚均匀性的研究

         
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光通信Lan-WDM滤光膜采用离子束溅射(IBS)沉积制备时,由于膜厚分布不均匀会导致光谱中心波长的漂移,影响有效镀膜区域。分析了离子束溅射膜厚分布特点,根据Ove Lyngnes提出的膜厚均匀性修正模型,通过修正Mask挡板来改善Ta2O5、SiO2的膜厚均匀性。经过多次修正Mask实验,最终在12英寸的基板上,分别将Ta2O5和SiO2的主Mask挡板在径向方向每一点膜厚均匀性修到小于0.1%;辅Mask挡板将内圈和外圈的膜厚均匀性修到大于1.5%,且呈线性关系。制备中心波长分别为1 295.56 nm、1 300.05 nm、1 304.58 nm、1 309.14 nm的Lan-WDM(细波分复用)滤光膜,测得光谱透射率有效镀膜区面积相比原来分别增大了2.01倍、2.20倍、2.25倍、2.04倍,提高了滤光膜的生产效率。

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