首页> 中文期刊> 《化学物理学报》 >微模塑法制备PMMA/SiO2二氧化硅杂化材料微结构

微模塑法制备PMMA/SiO2二氧化硅杂化材料微结构

         

摘要

以摩尔比为1:1的甲基丙烯酸甲酯(MMA)、甲基丙烯酸(3-三乙氧基硅烷基)丙酯(ESMA)单体、 0.2%(单体总量的质量分数)的偶氮二异丁腈AIBN引发剂和四氢呋喃(THF)溶剂,及20%(总质量分数)的正硅酸乙酯TEOS合成出PMMA/SiO2有机-无机杂化的杂化溶胶.将溶胶在洗净的普通光学玻璃基片表面甩膜.利用软刻蚀中的微模塑法,把有机硅弹性印章复制有精细图纹一面轻放在杂化溶胶膜上进行微模塑,外加1 N压力于120℃下处理2 h使溶胶凝胶化.印章剥离后在基片表面就形成了PMMA/SiO2有机-无机杂化材料的微图纹结构.从微图纹的光学显微镜照片可以看出微模塑方法制备杂化材料复制的图纹精细度高,操作简单易行,是一类比较理想的微细图纹结构加工的方法.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号