不同抛光处理对粘结托槽的瓷表面粗糙度影响的体外研究

陈启林; 胡孝丽; 严艳; 马国平

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不同抛光处理对粘结托槽的瓷表面粗糙度影响的体外研究

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目的:探讨不同抛光处理方法对烤瓷表面粘结的托槽去除后,瓷表面抛光后粗糙度的影响。方法:采用不同方法粘结托槽:A组（氢氟酸+陶瓷偶联剂+釉质粘结剂）;B组（氢氟酸+釉质粘结剂）;C组（陶瓷偶联剂+釉质粘结剂）。烤瓷片表面不同方法粘结托槽经剪切去除后,测定瓷面采用不同步骤抛光处理前后及对照组的瓷片表面粗糙度值。结果:抛光前A、B组间差异无统计学意义（P＞0.05）,C组小于A、B组,差异有统计学意义（P＜0.05）;抛光过程中各组间差异无统计学意义（P＞0.05）;各组抛光前后比较差异有统计学意义（P＜0.01）;抛光后各组间比较差异无统计学意义（P＞0.05）,都达到了对照组水平（P＞0.05）。结论:机械打磨、氢氟酸、陶瓷偶联剂对瓷表面粗糙度的影响依次递减,抛光套装依序抛光对降低表面粗糙度行之有效,抛光后能使托槽去除后瓷表面粗糙度达到对照组水平。

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来源
《临床口腔医学杂志》 |2014年第11期|651-652|共2页
作者
陈启林; 胡孝丽; 严艳; 马国平;
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作者单位

1. 湖北医药学院附属太和医院口腔科 2. 上海市浦东新区周浦医院;

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正文语种 chi
中图分类口腔正畸学;
关键词
抛光; 瓷表面; 表面粗糙度;

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