小波分析方法在磁光记录薄膜基本特性分析中的应用

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• 来源
  《磁性材料及器件》 |2000年第5期|6-9|共4页
• 作者

  朱全庆; 李佐宜; 李震; 蔡长波;

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• 作者单位

  华中科技大学电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

  华中科技大学电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

  华中科技大学电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

  华中科技大学电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 O484.4+.3;
• 关键词

  小波分析; 磁光记录薄膜; 饱和磁化强度;