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谢晓康; 缑园渊; 杨佳; 边小兵; 周剑平;
陕西师范大学物理学与信息技术学院;
射频磁控溅射; 钛酸锶钡薄膜; 表面形貌; 介电性能;
机译:工艺参数对射频磁控溅射掺杂氧化锌透明导电薄膜生长和性能的影响
机译:镁掺杂对RF磁控溅射沉积(Pb,Sr)TiO_3薄膜生长和介电性能的影响
机译:沉积参数对射频磁控溅射制备Ba(Sn_xTi_(1-x))O_3薄膜的生长速率和介电性能的影响
机译:掺杂MgF_2对钛酸锶钡陶瓷介电性能的影响。
机译:钛酸锶钡(BST)薄膜的介电性能和基于BST薄膜的移相器
机译:磁控溅射高熵膜的生长机理及沉积参数对结构和性能的影响
机译:添加4ZnO-B2O3对钛酸锶钡介电性能和微观结构的影响
机译:磁控溅射工艺参数对非晶碳薄膜电性能的影响
机译:形成的低介电常数材料的介电常数对密封孔隙率的影响
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