沉积温度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响

王晶; 余花娃

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沉积温度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响

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采用RF磁控溅射法,在单晶硅衬底上生长出高质量的(002)晶面取向的ZnO薄膜.利用X射线衍射分析(XRD)、原子力显微镜(AFM)、光栅光谱仪等技术研究了沉积温度对ZnO薄膜的结构、应力状态、表面形貌和发光性能的影响.研究结果表明,在射频功率为100W时所制备的ZnO薄膜当沉积温度为500℃时能获得最佳的c轴取向和最小半高宽,此时ZnO薄膜具有较小的压应力和较好的紫外发光性.

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来源
《陕西科技大学学报》 |2007年第6期|66-68|共4页
作者
王晶; 余花娃;
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作者单位

西安工程大学理学院;

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正文语种 chi
中图分类 O472.1;TN304.055;
关键词
磁控溅射; ZnO薄膜; 沉积温度; 光致发光;

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