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溅射后氨化法制备氮化镓薄膜技术综述

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简要介绍了溅射后氨化法制备氮化镓薄膜(纳米结构)的技术,总结了近年来用此方法所取得的科研成果,并着重介绍了衬底结构对氮化镓薄膜形貌的影响,以期进行理论计算、预测,并最终实现可控生长有所帮助.

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来源
《山东师范大学学报：自然科学版》 |2006年第4期|44-46|共3页
作者
孙莉莉; 薛成山; 庄惠照; 艾玉杰; 孙传伟; 王福学;
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作者单位

山东师范大学半导体研究所;

济南大学信息科学与工程学院;

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正文语种 chi
中图分类材料;
关键词
GaN; 氨化; 磁控溅射;

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