PECVD法硅基氮化硅薄膜的制备及其耐磨性研究

著录项

• 来源
  《润滑与密封》 |2009年第3期|12-15|共4页
• 作者

  王大刚; 张德坤;

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• 作者单位

  中国矿业大学机电工程学院,江苏徐州,221116;

  摩擦学国家重点实验室生物摩擦学中心,北京,100086;

  中国矿业大学材料科学与工程学院,江苏徐州,221116;

  摩擦学国家重点实验室生物摩擦学中心,北京,100086;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 摩擦与磨损;
• 关键词

  单晶硅; 氮化硅; 薄膜厚度; 纳米硬度; 耐磨寿命;