薄膜厚度

摘要： 通过采用电阻-电容电路(RC电路)的分压法、电阻-电感-电容电路(RLC电路)的谐振法及数字电桥仪器直接测量的三种方法,结合变距式电容测量传感器装置,分别测量了塑料薄膜(100%PP,聚丙烯)及普通A4纸的厚度。利用以上三种方法分别获得样品材料的厚度与电容量的相互变化关系,从而实现了非电量与电量间的转换与测量过程。

摘要： 由于在染料敏化太阳能电池(dye-sensitized solar cell, DSSC)中存在染料弛豫、半导体薄膜中电子与氧化态染料分子发生反应和电子在电解质中与氧化态离子复合等不利反应,利用一个更完善的DSSC载流子传输模型对电池的光电性能进行模拟就显得非常重要。为此,本文基于由多重俘获理论建立的DSSC中的包括电子、染料阳离子、碘化物和三碘化物在内的载流子传输模型,数值模拟得到了不同TiO_(2)薄膜厚度、不同入射光强度与不同染料分子吸收系数下DSSC的J-V曲线。结果表明,随着TiO_(2)薄膜厚度的增加,太阳能电池的短路电流密度增大,开路电压减小,光电转换效率先增大后减小。当DSSC的TiO_(2)薄膜厚度为20 μm时,光电转换效率达到最大值7.41%,同时光电转换效率随入射光强度与染料分子吸收系数的增大均有一定程度提高,其中在吸收系数为4 500 cm^(-1)时,光电转换效率为6.73%。以上结果可以为改进DSSC的光电性能提供理论指导。

摘要： 本文在室温下利用射频磁控溅射技术在(001)蓝宝石衬底上制备了不同厚度的β-Ga_(2)O_(3)薄膜,随后将其置于氩气气氛中800°C退火1 h.利用XRD,SEM,UV-Vis分光光度计、PL光致发光光谱仪和Keithley 4200-SCS半导体表征系统等考察薄膜厚度对所得氧化镓薄膜相组成、表面形貌、光学性能以及光电探测性能的影响.结果表明,随着薄膜厚度的增加,薄膜结晶质量提高,840 nm薄膜最佳,1050 nm薄膜结晶质量略有降低.不同厚度β-Ga_(2)O_(3)薄膜在波长200—300 nm日盲区域内均具有明显的紫外光吸收,禁带宽度随着薄膜厚度的增加而增加.PL谱中各发光峰峰强随着薄膜厚度的增加而减小,表明氧空位及其相关缺陷受到抑制.在β-Ga_(2)O_(3)薄膜基础上制备出日盲紫外光电探测器的探测性能(光暗电流比,响应度,探测率,外量子效率)也随薄膜厚度的增加呈先增后减的趋势.厚度约为840 nm的β-Ga_(2)O_(3)紫外光电探测器,在5V偏压下,表现出极低的暗电流(4.9×10^(-12) A),以及在波长254 nm(600μW/cm^(2))紫外光照下,表现出较高的光暗电流比(3.2×10^(5)),较短的响应时间0.09/0.80 s(上升时间),0.06/0.53 s(下降时间),其响应度、探测率和外量子效率分别为1.19 mA/W,1.9×10^(11) Jones和0.58%,且其光电流随光功率密度和偏置电压的增加几乎呈现线性增加,可以用于制作日盲紫外探测器.

摘要： 采用低功率射频磁控溅射方法分别在玻璃和Si衬底表面沉积不同厚度的MoS_(2)薄膜,经硫化退火处理后,利用Raman光谱、AFM、UV-Vis光谱和45°镜面反射光谱,对MoS_(2)薄膜结构及光谱性质进行表征。结果表明,两种衬底上沉积的MoS_(2)薄膜经退火处理后均在670、615及400~500 nm处出现分别对应A、B、C激子的明显吸收峰和反射峰,表明所制MoS_(2)薄膜已结晶。A、B、C激子峰均随着薄膜层数增加而红移,表明MoS_(2)薄膜的能带结构随层数发生改变。另外,A、B激子峰位置不受光谱检测方式的影响,而45°镜面反射光谱中C激子峰则相对于UV-Vis光谱有一定红移,因此,可依据A、B特征激子峰的有无及峰位判定MoS_(2)薄膜的结晶度及层数,其中45°镜面反射光谱可用于非透明材料衬底上MoS_(2)薄膜厚度(或层数)的判定。

摘要： WO3(三氧化钨)薄膜厚度的选择对电致变色器件性能有至关重要的作用。通过TFCalc软件理论计算WO3薄膜褪色态、着色态透过光谱及其光学调制幅度变化;通过在FTO(氧化锡掺氟)玻璃上制备氧化钨薄膜,研究分析不同厚度氧化钨晶体结构与光学调制幅度相关性。对比研究发现:WO3厚度的选择应根据着色态透过率和实际的光学调制幅度确定,光学理论计算WO3薄膜的调制幅度有一定的局限性,这与晶态WO3薄膜的结构发生变化有关。

摘要： 为了了解铁磁性薄膜中表面自旋波的物理性质,采用量子格林函数方法研究了铁磁性薄膜中表面自旋波的频率,分析了温度、外磁场、表面交换耦合、表面各向异性、薄膜厚度和波矢对表面自旋波频率的影响.结果表明,声学和光学表面自旋波的频率随温度的升高而减小.随着外磁场、表面交换耦合、表面各向异性和波矢的增加,声学和光学表面自旋波的频率随之增加.随着原子层数的减小,声学和光学表面自旋波频率增大.但当薄膜的原子层数大于5时,薄膜厚度对声学和光学表面自旋波频率的影响很小.

摘要： 本文基于涨落耗散定理和并矢格林函数求解麦克斯韦方程来研究两个半无限大平板的近场热辐射净热流,提出了两个半无限大块状二氧化钒组成的V/V结构、石墨烯覆盖两个半无限大块状二氧化钒组成的GV/GV结构和石墨烯覆盖VO2薄膜组成的GV0/GV0结构,深入研究了这三种结构中二氧化钒与石墨烯间的近场热辐射,并分析了真空间距、二氧化钒薄膜厚度和石墨烯化学势等物理参量变化对近场热辐射的影响.研究表明:三种结构的近场热辐射均随间距增大而减小;在真空间距为10 nm时,由石墨烯覆盖的GV/GV结构的近场辐射热流比无石墨烯覆盖的V/V结构增强35倍,耦合效果最好的是GV0/GV0结构,该结构的近场辐射热流比GV/GV结构增强8.6倍;在GV0/GV0结构中,当二氧化钒薄膜厚度为30 nm时,石墨烯化学势从0.1 eV增加到0.6 eV辐射热流会减小3.3倍.本文系统研究了二氧化钒与石墨烯间相互耦合的近场热辐射,对相关结构的近场热辐射实验和实际应用具有理论指导意义.

摘要： 考察了中国石油兰州石化公司低密度聚乙烯2420 H吹膜时吹胀比、加工温度、薄膜厚度对薄膜性能的影响.结果表明:当吹胀比为3.0时,薄膜的加工工艺稳定,横向拉伸断裂应力较高,鱼眼较少,透明性较好;加工温度在160～185°C时,薄膜拉伸性能、直角撕裂强度性能较佳;薄膜厚度对薄膜性能有明显影响.

摘要： 本文采用透射光谱法测量Ge基底类金刚石薄膜(Diamond-like carbon,DLC)的光谱曲线.应用测量的光谱曲线,基于模拟退火算法,构建目标优化函数,通过光谱反演法得到薄膜的厚度、折射率、消光系数.该方法得到的Ge基底类金刚石膜的光学参数与椭偏仪测试结果比对,折射率误差小于1％,厚度误差小于2％.并且将薄膜的光学参数带入透过率理论计算模型,得到的Ge基底类金刚石薄膜透射光谱曲线和实际测试曲线的误差小于2％.该方法只需测量透射光谱曲线,通过计算就能得到薄膜光学参数,对光学薄膜设计和加工具有重要指导意义.

摘要： 目的针对市面上不同薄膜厚度的充气垫进行跌落试验和仿真分析,得出薄膜厚度对充气垫的缓冲性能影响规律,为充气垫缓冲材料的选择与使用提供理论依据。方法应用柱状充气垫做玻璃保温杯的缓冲包装,测试跌落试验过程加速度变化情况,并将跌落测试结果与仿真分析结果做对比分析。结果当跌落高度为40 cm时,采用薄膜厚度分别为55,60,65μm的充气垫,玻璃杯最大响应加速度依次为246,283,322 m/s^(2);当跌落高度为60 cm时,玻璃杯最大响应加速度依次为357,419,452 m/s^(2);当跌落高度为80 cm时,玻璃杯最大响应加速度依次为569,693,751 m/s^(2)。以薄膜厚度为55μm的充气垫为例,模拟跌落高度为40,60,80 cm时,玻璃杯最大响应加速度依次为268,399,631 m/s^(2)。结论薄膜厚度在一定程度上影响着充气垫的缓冲性能,在一定范围内,充气垫的薄膜厚度越小缓冲性能越佳。同时仿真试验所得结论符合误差要求,可为充气垫缓冲材料的进一步研究提供理论支撑。

摘要： 四面体非晶碳(ta-C)薄膜具有高硬度和弹性模量、优异的耐磨性和抗蚀性、高热导率和电阻率以及良好的化学惰性等优异性质,已成为刀具用硬质合金表面的理想涂层材料.本文采用多弧离子镀技术在P(100)单晶抛光硅衬底和YG6硬质合金上制备ta-C薄膜,研究沉积时间(19、27、35、47min)对ta-C薄膜结构和性能的影响.利用表面轮廓仪对薄膜粗糙度进行测量,利用扫描电镜对薄膜表面、截面形貌进行表征及对薄膜厚度进行测量,利用划痕试验仪对薄膜的膜/基结合力进行测试,利用洛氏硬度计对薄膜脆性及结合力进行测试表征,采用拉曼光谱和XPS对薄膜sp3键含量进行标定.结果表明,随着薄膜厚度增加(0.5～1.4μm);表征sp3键含量的ID/IG值增加,sp3键的含量逐渐降低;硬质合金基体与ta-C薄膜之间的结合力降低,19min时,ta-C薄膜与基体具有最高的结合力60N;薄膜韧性逐渐降低(HF2～HF5);薄膜表面碳颗粒数量及尺寸逐渐增加,19min时薄膜具有最小的表面粗糙度0.13μm.随着ta-C薄膜厚度的增加,膜层内部应力逐渐增大,致薄膜与基体的结合力及韧性降低;sp3键的含量降低可能是部分亚稳态sp3键转变为稳态的sp2键.

摘要： 使用有机半导体材料制备的薄膜晶体管是当下研究的热点,本文研究的是利用有机半导体材料酞菁氧钒(V0Pc)制作出的有机异质结V0Pc/C60双极型晶体管,通过改变酞菁氧钒膜厚,对晶体管性能表征和测试数据的分析,得到在不同条件下器件性能的变化.实验结果表明,酞菁氧钒薄膜厚度为5nm时,能得到载流子平衡性能更佳的双极型晶体管器件.

摘要： 采用溶胶-凝胶旋涂法,在SnO2∶F(FTO)镀膜玻璃衬底上成功地制备了掺氟浓度为4％的不同厚度的柱状晶TiO2∶F/FTO复合薄膜.研究了TiO2∶F膜厚对TiO2∶F/FTO镀膜玻璃样品的结晶性能,亲水性能、低辐射性能以及透光性能的影响.结果表明,TiO2∶F/FTO镀膜玻璃的结晶性能随着薄膜厚度的增大而明显增强.经过一定时间的紫外光照后,薄膜表现出了很强的亲水性,且亲水性随着薄膜厚度的增加而先提高后下降,当膜厚为320nm时亲水性能最好.与此同时,TiO2∶F/FTO镀膜玻璃的低辐射性能随着厚度的增大而下降,当膜厚为320nm时其辐射率小于0.25,满足工业要求.TiO2∶F薄膜的厚度时TiO2∶F/FTO镀膜玻璃样品的影响大不,可见光区域平均透过率约为70％,满足建筑采光要求.

摘要： 为保证微机电系统(MEMS)工艺制作过程中薄膜厚度测量的准确、可靠,依据《GJB/J5463-2005光学薄膜折射率和厚度测试仪检定规程》、《GJB1317A-2006军用检定规程和校准规程编写通用要求》等技术文件编制"椭偏仪自校准规程".依据规程对SE500椭偏仪、SpecEI-2000椭偏仪的外观及工作正常性、薄膜厚度最大误差等技术要求进行校准,对整个校准过程测量不确定度进行评估,确定测量结果可信,量值准确,测量过程处于受控状态.

摘要： 为了得到多层薄膜系中各层薄膜的厚度和膜层间界面的面形,本文提出了一种基于扫描白光干涉仪的多层薄膜三维形貌测量方法.首先利用电磁场的边界条件得出了多层薄膜的反射相位与各层薄膜厚度之间的数学模型;接着提出利用非线性最小二乘算法对扫描白光干涉仪测得的多层膜反射相位进行拟合,将反射相位的线性项和非线性项分离,分别得到多层薄膜顶层界面的面形和各层薄膜的厚度,从而重构出多层薄膜的三维形貌.实验结果表明,本方法对多层薄膜的三维形貌测量是有效的,且该方法可以利用现成的扫描白光干涉仪实现测量,测量成本低、操作简单.

摘要： 使用共蒸发法制备的CdZnTe 薄膜,使用不同温度的硝酸冰乙酸的混合溶液进行不同时间的腐蚀,通过腐蚀前后薄膜厚度的测定,得出硝酸冰乙酸混合液对CdZnTe 薄膜的腐蚀速率.rn 通过SEM 观测,腐蚀过后的CdZnTe 薄膜晶界变宽；XRD 测试发现,腐蚀过后薄膜表面生成了一层富Te 层,有利于实现CdZnTe 与金属背电极之间的欧姆接触.

摘要： 文章利用肥皂膜的等厚干涉原理,研究了竖直面内肥皂膜条纹位置及薄膜厚度的分布规律,结果发现竖直面内肥皂膜的厚度为微米和亚微米量级,其分布随着成膜时间的变化而变化:在肥皂膜形成初期,膜厚分布近似于"铃铛"形;在肥皂膜形成中期,膜厚分布为标准的楔形;而在接近破裂时其形状类似于倒立的"漏斗"形.

摘要： 采用飞秒激光热反射法测量了在不同溅射功率和负偏压条件下得到的Al/Si界面热导，用原子力显微镜（AFM）表征了金属薄膜表面粗糙度和厚度，并用俄歇电子谱（AES）分析了沿厚度方向的元素分布，进而讨论了不同溅射条件对界面热输运的影响。结果表明，AFM和AES测得的薄膜厚度相近，但均远小于飞秒激光热反射实验数据的拟合结果；当溅射功率为200W时，Si表面氧化层被溅射蚀刻，界面热导增加；增加负偏压可能导致界面处粗糙度增大，进而使得界面热导减小。

摘要： 凯阳公司致力于高端功能薄膜的研发与制造，具有1亿平米背板氟膜的年生产能力，具有氟膜智能制造的多条流延薄膜生产线。未来背板氟膜熔体流动更加稳定，厚度与挤出系统反馈程序更先进，共混体系塑化与计量具有挑战，厚度控制更难，多层共挤模具的设计与优化具有挑战，厚薄控制更难。

摘要： 凯阳公司致力于高端功能薄膜的研发与制造，具有1亿平米背板氟膜的年生产能力，具有氟膜智能制造的多条流延薄膜生产线。未来背板氟膜熔体流动更加稳定，厚度与挤出系统反馈程序更先进，共混体系塑化与计量具有挑战，厚度控制更难，多层共挤模具的设计与优化具有挑战，厚薄控制更难。

摘要： 本发明公开了一种大面积无缺陷纳米量级厚度致密陶瓷薄膜的制备方法，将金属醇盐、表面活性剂、反应抑制剂溶解于易于在水面铺展的油性溶剂而形成油性溶液，将该油性溶液滴于静止的水面上铺展开来而形成厚度均匀的液膜，液膜中的金属醇盐与水发生化学反应而转变为溶胶，进而经凝胶化形成具有一定厚度和强度的膜层，膜层经干燥和煅烧后，即得到大面积无缺陷纳米量级厚度的致密陶瓷薄膜。此外，还公开了利用上述制备方法制得的陶瓷薄膜。本发明解决了现有技术以溶胶为前驱体所带来的易产生收缩而导致开裂的难题，以及采用沉积等方法纳米厚度难以控制、易形成气孔或裂纹缺陷等问题，为纳米厚度致密陶瓷薄膜的制备提供了新的途径。

摘要： 本发明提供了一种当厚度为纳米级别时仍然在宽波段范围内具有高红外吸收性能的薄膜材料——非晶碳基薄膜；并且提供了一种制备该薄膜材料的方法，将基体置于真空腔室中，在氩气氛围中，采用高功率脉冲磁控溅射石墨靶，在基体表面沉积非晶碳基薄膜，并且在沉积过程中对基体施加‑25V～‑100V的直流脉冲偏压。该方法工艺简单，制得的非晶碳基薄膜在纳米级厚度时在2.5～25微米波长范围内的红外吸收率大于20％，甚至大于25％，因此可作为超薄宽波段高红外吸收材料应用于红外探测器等器件中。

摘要： 本发明提供一种嵌入用薄膜的树脂层的厚度确定方法、带嵌入用薄膜的树脂成型品的制造方法及嵌入用薄膜。与第2树脂层(16)接触的导电性网状层15的面的温度T(°C)和第1树脂层(14)的厚度t1、第2树脂层(16)的厚度t2满足下述(1)式。

摘要： 本发明涉及薄膜材料的制备和应用领域，具体是一种可精确调控纳米级厚度薄膜成膜厚度和面积的制膜方法，实现厚度均匀一致的纳米级厚度薄膜材料的高效控制制备。该方法采用旋转离心制膜方法的基本原理，在基体旋转装置的基础上采用具有微小孔径的打印喷头或针头，在恒定成膜液体压力和可控运动轨迹的条件下，将一定量的成膜液体以微细液柱的形式喷射到以一定速率转动着的成膜基体表面，形成厚度、形状及面积可控的均匀液膜，进而通过控制固化条件获得固体的膜材料。该方法可以实现厚度均匀一致的纳米级厚度薄膜材料的高效精确控制制备，可广泛应用于光电器件、储能器件、防护功能涂层、催化材料、复合材料等技术领域。

摘要： 本发明涉及一种制造薄膜(F1)的方法，所述薄膜包含空腔且由其中分散有空化剂的聚合物形成，所述方法包括：挤压聚合物通过挤压模具的步骤，该挤压模具装配有用于调整经挤压的薄膜的厚度的调节制动器(Act)；和拉伸(Str1)薄膜的步骤，以及基于拉伸步骤前后薄膜的单位面积质量分布建立薄膜的映射函数，基于所述映射函数和所述横向单位面积质量分布建立经拉伸的薄膜的拉伸分布，基于所述拉伸分布和经拉伸的薄膜中空化剂的质量浓度的横向分布建立特征横向分布，使得能够将薄膜中空化剂的分布考虑在内，该方法中，所述调节制动器是根据所述特征横向分布控制的。

摘要： 本发明公开了一种大面积无缺陷纳米量级厚度致密陶瓷薄膜的制备方法，将金属醇盐、表面活性剂、反应抑制剂溶解于易于在水面铺展的油性溶剂而形成油性溶液，将该油性溶液滴于静止的水面上铺展开来而形成厚度均匀的液膜，液膜中的金属醇盐与水发生化学反应而转变为溶胶，进而经凝胶化形成具有一定厚度和强度的膜层，膜层经干燥和煅烧后，即得到大面积无缺陷纳米量级厚度的致密陶瓷薄膜。此外，还公开了利用上述制备方法制得的陶瓷薄膜。本发明解决了现有技术以溶胶为前驱体所带来的易产生收缩而导致开裂的难题，以及采用沉积等方法纳米厚度难以控制、易形成气孔或裂纹缺陷等问题，为纳米厚度致密陶瓷薄膜的制备提供了新的途径。

摘要： 利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置实现测量光学薄膜厚度的方法，涉及测量光学薄膜厚度的装置及方法。它是为了解决现有的光学薄膜厚度的方法的测量精度低的问题。其装置：垂直入射至挡光板的偏振光束覆盖挡光板上的一号狭缝和二号狭缝，该偏振光束经待测光学薄膜透射并经一号狭缝出射形成第一束偏振光；该偏振光束二号狭缝出射形成第二束偏振光；第一束偏振光和第二束偏振光均入射至CCD探测器的探测面上，并形成干涉条纹，CCD探测器的探测面与挡光板相互平行。其方法：任取一段干涉条纹与光强公式进行拟合，获得待测光学薄膜引起的光程差，进而获得待测光学薄膜的厚度。本发明适用于测量光学薄膜厚度。

摘要： 本发明公开了一种改善液相外延大尺寸石榴石单晶薄膜厚度均匀性的方法及采用该方法制得的单晶薄膜，属于薄膜材料技术领域，调整制备所述薄膜的原料中PbO‑B2O3的比例，按摩尔比计，12≤PbO/B2O3≤17，优选调整所述薄膜生长时衬底转速r1，100rpm≤r1≤150rpm，调整最终在石榴石单晶薄膜生长结束后衬底转速r2，r2>300rpm；采用本发明的方法，能够实现3英寸石榴石单晶薄膜中大于70％的膜面厚度变化小于2％。

摘要： 本发明涉及水溶膜技术领域，且公开了一种根据厚度变化保证绕卷厚度保持一致的薄膜绕卷机，包括底板，所述底板的上方活动连接有运输辊，对水溶膜进行支撑，通过收卷辊、推杆、转盘和割刀的配合使用，使得随着收卷辊的旋转薄膜厚度逐渐增加，触发推杆运动，带动转盘旋转，最终带动割刀往下切割，保证在进行生产操作薄膜收卷时每卷薄膜的厚度保持一致，从而完成了薄膜的定量收卷，通过第二转轴、连接杆、第二滑块、割刀和竖杆的配合使用，使得当第二转轴旋转时，带动第二滑块和竖杆上下运动，从而带动割刀往下进行切割，完成定量切割的目的，不需要人为进行判断切割时间，提高装置的自动化，提高了工作效率。

摘要： 本实用新型涉及水溶膜技术领域，且公开了一种根据厚度变化保证绕卷厚度保持一致的薄膜绕卷机，包括底板，所述底板的上方活动连接有运输辊，对水溶膜进行支撑，通过收卷辊、推杆、转盘和割刀的配合使用，使得随着收卷辊的旋转薄膜厚度逐渐增加，触发推杆运动，带动转盘旋转，最终带动割刀往下切割，保证在进行生产操作薄膜收卷时每卷薄膜的厚度保持一致，从而完成了薄膜的定量收卷，通过第二转轴、连接杆、第二滑块、割刀和竖杆的配合使用，使得当第二转轴旋转时，带动第二滑块和竖杆上下运动，从而带动割刀往下进行切割，完成定量切割的目的，不需要人为进行判断切割时间，提高装置的自动化，提高了工作效率。