溅射Ar流量对Mn膜光学常数的影响

著录项

• 来源
  《材料导报》 |2014年第6期|101-103|共3页
• 作者

  邵飞; 张晋敏; 唐华杰; 胡维前; 谢泉; 卢顺顺; 贺晓金;

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• 作者单位

  贵州大学电子信息学院,贵阳550025;

  贵州大学新型光电子材料与技术研究所,贵阳550025;

  贵州大学电子信息学院,贵阳550025;

  贵州大学新型光电子材料与技术研究所,贵阳550025;

  贵州大学电子信息学院,贵阳550025;

  贵州大学新型光电子材料与技术研究所,贵阳550025;

  贵州大学电子信息学院,贵阳550025;

  贵州大学新型光电子材料与技术研究所,贵阳550025;

  贵州大学电子信息学院,贵阳550025;

  贵州大学新型光电子材料与技术研究所,贵阳550025;

  贵州大学电子信息学院,贵阳550025;

  贵州大学新型光电子材料与技术研究所,贵阳550025;

  贵州大学电子信息学院,贵阳550025;

  贵州大学新型光电子材料与技术研究所,贵阳550025;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 材料;
• 关键词

  磁控溅射; 锰薄膜; Ar流量; 光学常数;