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郭中正; 孙勇; 李玉阁; 周铖; 彭明军;
昆明理工大学云南省新材料制备与加工重点实验室,昆明,650093;
Al-Pb合金薄膜; 亚稳固溶体; 扩展固溶度; 磁控共溅射;
机译:磁控共溅射开发的二元非晶态Zn-Zr合金薄膜用于可降解冠状动脉支架的生产:初步研究
机译:磁控共溅射从靶材上制备的纳米晶Ni-Ti合金薄膜:衬底条件的影响
机译:磁控共溅射制备的锗碳合金薄膜的化学键合和光学性质随衬底温度的变化
机译:电极间距和靶角对磁控共溅射制备的掺Al Zno薄膜元素浓度和薄膜性能的影响
机译:磁控共溅射沉积组成梯度锶锶镧锰矿薄膜的综合研究。
机译:磁控共溅射制备可降解冠状动脉支架的二元非晶态Zn-Zr合金薄膜的初步研究
机译:采用同步脉冲衬底偏压的混合高功率脉冲磁控/直流磁控共溅射制备Ti1-xalxN薄膜时金属与稀有气体离子辐照
机译:用于涂覆ICF靶的磁控共溅射系统。
机译:使用磁控共溅射和可穿戴电子设备的可拉伸混合薄膜电极
机译:磁控共溅射制备金属掺杂ZnO薄膜的方法
机译:磁控共溅射制备掺杂金属的ZNO薄膜的方法
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