PLD法制备氧化锌薄膜生长机制及发光特性的研究

谢可可; 仇旭升; 孔明光; 刘炳龙; 汪壮兵; 于永强; 章伟; 梁齐

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利用PLD法在Si衬底上成功地制备了具有较好C轴择优取向生长的ZnO薄膜,从样品的XRD谱可以看出在环境氧压为20Pa,衬底温度为700℃时生长的样品的XRD谱（002）峰半高宽较窄,膜的结晶程度最好。不同的衬底温度下膜的生长机制也不一样,主要有:V-L-S机制和V-S机制。样品室温下的PL谱显示所有样品均出现UV发射和可见光区蓝绿光发射,而蓝绿光发射强度随氧压的增大而增强,表明样品的蓝绿光发射来源于样品中的受主缺陷。

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来源
《材料导报》 |2008年第s1期|69-71|共3页
作者
谢可可; 仇旭升; 孔明光; 刘炳龙; 汪壮兵; 于永强; 章伟; 梁齐;
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作者单位

1. 合肥工业大学理学院 2. 中国科学院合肥固体物理研究所材料物理重点实验室;

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正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
ZnO薄膜; PLD; XRD; PL谱;

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