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氮化硅薄膜的制备方法及主要应用

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摘要

氮化硅薄膜具有优良的光电性能、绝缘耐压性能、机械性能以及钝化性能等，在光电子、微电子等大规模集成电路和半导体器件制造中有着广泛的应用。重点评述了制备氮化硅薄膜的几种常用方法，并介绍了氮化硅薄膜的主要性能及其应用。

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来源
《材料导报》 |2004年第F10期|P.298-300,297|共4页
作者
张化福; 祁康成; 吴健;
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作者单位

电子科技大学光电信息学院;

成都610054;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类大规模集成电路、超大规模集成电路;
关键词
氮化硅薄膜; 应用; 制备方法; 大规模集成电路; 半导体器件; 光电性能; 耐压性能; 机械性能; 常用方法; 主要性能; 光电子; 微电子;

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