磁控溅射ITO薄膜的退火处理

著录项

• 来源
  《材料科学与工艺》 |2008年第2期|264-266|共3页
• 作者

  王军; 成建波; 陈文彬; 杨刚; 蒋亚东; 蒋泉; 杨健君;

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• 作者单位

  电子科技大学,光电信息学院,成都,610054;

  电子科技大学,光电信息学院,成都,610054;

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  电子科技大学,光电信息学院,成都,610054;

  电子科技大学,光电信息学院,成都,610054;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 TN304.055;
• 关键词

  薄膜; 氧化铟锡(ITO); 退火; 直流磁控溅射; 方阻;