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李金龙; 孙明仁; 马欣新; 唐光泽; 金银玉;
哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001;
等离子体基离子注入; TiN膜; XPS; 成分深度分布; 元素化学价态; 纳米硬度;
机译:多目标非平衡磁控溅射等离子体基离子注入制备Ti / N和Ag / TiN_x多层膜
机译:金属等离子体浸没离子注入和沉积制备的Ti-O / TiN梯度膜的组成,结构,力学性能和血小板粘附性的研究
机译:工艺中加入H_2气体和H离子注入对双极型等离子体离子注入制备的氢化非晶碳膜微观结构的影响
机译:等离子体基离子注入在2024铝合金上制备的成分和结构梯度层
机译:有机培养基中的Cutinase:制备固定的cutinase,催化剂溶剂耐受性,热稳定性和构型术中的结构功能关系中的研究
机译:低温等离子体制备薄无机多层膜成分深度分析的弹坑壁
机译:低压等离子体和等离子体浸没离子注入的纳米级表面改性:通过XPS方法表征成分和化学结构
机译:离子注入冶金:离子注入和离子束混合制备表面合金的成分,结构和腐蚀行为的研究
机译:等离子体CVD结合等离子体离子注入的类金刚石膜三维元件涂层方法及设备
机译:耐等离子体成分,耐等离子体成分的制造方法以及用于耐等离子体成分的膜沉积装置
机译:制造耐等离子体成分的耐等离子体成分的方法以及用于制造耐等离子体成分的膜沉积装置
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