光刻机掩模台宏动定位系统的控制器设计

邓习树; 吴运新; 王永华

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光刻机掩模台宏动定位系统的控制器设计

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为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机掩膜台宏动平台的控制问题,采用直线电机设计了高速、高精密步进扫描光刻机的掩模台模拟宏动定位系统,并建立了整个直线运动平台的数学模型.根据该系统的特点和模型,还设计了一种不完全微分PID+干扰观测器的控制方式.运用MATLAB软件进行仿真,结果表明,在具有相同的扰动下,仅采用普通PID控制,系统跟踪误差在±0.025 mm范围内变化,而采用该控制方式,系统跟踪误差在±0.015 mm的范围内变化,后者比前者具有更好的控制性能,因而可以使系统得到较好的抗干扰能力、跟踪性能和控制效果.

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来源
《微细加工技术》 |2006年第6期|22-27|共6页
作者
邓习树; 吴运新; 王永华;
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作者单位

中南大学,机电工程学院,长沙,410083;

中南大学,机电工程学院,长沙,410083;

中南大学,机电工程学院,长沙,410083;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类加工过程中的振动和减振措施;
关键词
干扰观测器; 光刻机; 掩模台; 控制系统;

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