电子束曝光数据格式的改进设计与实现

魏淑华; 刘伟; 李晓娜; 张今朝; 韩立

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电子束曝光数据格式的改进设计与实现

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根据中国科学院电工研究所研制的DY-2000型实用化电子束曝光系统对曝光图形数据格式的要求及用户的需要,对原曝光文件格式(EDF)进行了改进,利用VC+ +6.0开发环境实现了EDF格式文件的图形创建、结构体引用以及文件保存,同时增加了多层图形套刻和邻近效应修正数据处理的功能.实验结果表明,改进后的电子束曝光图形文件格式可满足用户的需求,便于用户新建版图文件,同时也提高了文件传输速度及曝光的效率.

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来源
《微细加工技术》 |2006年第6期|6-10|共5页
作者
魏淑华; 刘伟; 李晓娜; 张今朝; 韩立;
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作者单位

中国科学院电工研究所,北京,100080;

中国科学院研究生院,北京,100039;

中国科学院电工研究所,北京,100080;

中国科学院电工研究所,北京,100080;

中国科学院电工研究所,北京,100080;

中国科学院电工研究所,北京,100080;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;专用应用软件;
关键词
电子束曝光; 图形发生器; 图形文件格式; 套刻;

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