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反应溅射制备TiN薄膜的靶动力学研究

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摘要

从微观粒子的相互作用和输运出发，探讨靶溅射过程中的基元化学物理步骤，计算了溅射速率的离子能量分布。为深入研究溅射薄膜的生长速率和靶中毒奠定基础。

著录项

来源
《微细加工技术》 |1997年第1期|41-46|共6页
作者
王敬义; 王颖;
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作者单位

华中理工大学固体电子学系;

华中理工大学固体电子学系;

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正文语种 CHI
中图分类溅射;
关键词
反应溅射; 薄膜; 靶动力学; 氮化钛;

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