软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文)

陈静; 石剑; 刘正堂; DECANINI Dominique; HAGHIRI-GOSNET Anne-Marie

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软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文)

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摘要

报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻蚀的方法去除残留的Amonil光刻胶.研究了不同的气体组成、射频功率、压强和气体流量对刻蚀形貌、表面粗糙度以及刻蚀速度的影响.在优化的工艺条件下,获得了理想的具有垂直侧壁形貌和较小表面粗糙度的纳米光栅阵列.结果表明,选择优化的刻蚀工艺参数,既能有效地改善图形转移的性能,同时也能提高所制备结构的光学应用特性.

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来源
《纳米技术与精密工程（英文）》 |2012年第1期|52-58|共7页
作者
陈静; 石剑; 刘正堂; DECANINI Dominique; HAGHIRI-GOSNET Anne-Marie;
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作者单位

西北工业大学凝固国家重点实验室;

法国国家科研中心光子与纳米结构实验室;

法国巴黎高等师范学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;与物质的相互作用;
关键词
软膜紫外光固化纳米压印; 反应离子刻蚀; 刻蚀形貌; 表面粗糙度;

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