磁控溅射参数对Al薄膜微观结构及红外特性的影响研究

李阳; 程海峰; 刘东青; 郑文伟; 张朝阳

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磁控溅射参数对Al薄膜微观结构及红外特性的影响研究

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利用磁控溅射法在Si(100)基片上制备了Al薄膜,采用X射线衍射、扫描电镜、扫描探针显微镜和红外光谱仪研究了基片温度、溅射功率和溅射时间对Al薄膜表面、断面形貌和红外反射率的影响.结果表明:随着基片温度的升高,Al颗粒的尺寸变大,由均匀细颗粒变为不规则形状,并逐渐熔为一个整体,断面形貌变得凹凸不平,表面粗糙度增大,红外反射率呈下降的趋势;随着溅射功率的增大,Al薄膜致密平整,表面粗糙度增大,红外反射率先增大后不变;随着溅射时间的延长,Al薄膜表面粗糙度增大,红外反射率先增大后不变.

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来源
《化工新型材料》 |2017年第12期|172-175,179|共5页
作者
李阳; 程海峰; 刘东青; 郑文伟; 张朝阳;
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作者单位

国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室,长沙410073;

国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室,长沙410073;

国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室,长沙410073;

国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室,长沙410073;

国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室,长沙410073;

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正文语种 chi
中图分类
关键词
磁控溅射; Al薄膜; 微观结构; 红外特性;

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