首页> 中文期刊> 《光学仪器》 >基底温度对YbF3薄膜缺陷和光学性能影响研究

基底温度对YbF3薄膜缺陷和光学性能影响研究

         

摘要

采用热蒸发法镀制了单层YbF3薄膜,观察了薄膜表面主要的微观结构缺陷,研究了沉积温度对薄膜折射率与表面缺陷的影响,测量了薄膜施加沉积温度前后的粗糙度变化.结果表明:通过加温可以降低薄膜的表面粗糙度与缺陷密度大小.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号