窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅

著录项

• 来源
  《光学精密工程》 |2004年第2期|226-230|共5页
• 作者

  吴文娟; 王占山; 秦树基; 王风丽; 王洪昌; 张众; 陈玲燕; 徐向东; 付绍军;

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• 作者单位

  同济大学,精密光学工程技术研究所物理系,上海,200092;

  同济大学,精密光学工程技术研究所物理系,上海,200092;

  同济大学,精密光学工程技术研究所物理系,上海,200092;

  同济大学,精密光学工程技术研究所物理系,上海,200092;

  同济大学,精密光学工程技术研究所物理系,上海,200092;

  同济大学,精密光学工程技术研究所物理系,上海,200092;

  同济大学,精密光学工程技术研究所物理系,上海,200092;

  中国科技大学,同步辐射国家重点实验室,安徽,合肥,230029;

  中国科技大学,同步辐射国家重点实验室,安徽,合肥,230029;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 薄膜技术;
• 关键词

  多层膜; 光栅; 带宽; 刻蚀; 光谱分辨率; 刻蚀比;