用于飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模研制

刘全; 黄爽爽; 鲁金超; 陈新华; 吴建宏

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cqvip:利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2%以内,同时±1级的衍射效率大于35%。在此基础上,利用全息光刻-离子束刻蚀技术,制作了用于520 nm波长飞秒激光的周期为1067 nm、有效面积大于40 mm×30 mm的相位掩模。实际制作的相位掩模是梯形槽形,槽深是0.665μm,分析了梯形槽形中梯形角对衍射效率的影响。实验测量表明,该相位掩模的零级衍射效率小于2%,±1级衍射效率大于40%,满足飞秒激光制作光纤光栅的需要。

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来源
《光学精密工程》 |2020年第4期|844-850|共7页
作者
刘全; 黄爽爽; 鲁金超; 陈新华; 吴建宏;
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作者单位

苏州大学光电科学与工程学院&苏州纳米科技协同创新中心江苏苏州215006;

江苏省先进光学制造技术重点实验室&教育部现代光学技术重点实验室江苏苏州215006;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光纤元件;光刻、掩膜;
关键词
全息光刻; 相位掩模; 严格耦合波理论; 离子束刻蚀; 衍射效率;

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