采用双向偏置曝光的成像干涉光刻技术

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• 来源
  《光电工程》 |2006年第1期|1-5|共5页
• 作者

  冯伯儒; 张锦; 刘娟;

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• 作者单位

  中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

  中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

  中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

  中国工程物理研究院电子工程研究所,中国,绵阳,621900;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜;
• 关键词

  光学光刻; 干涉光刻; 成像干涉光刻; 分辨力增强技术; 双向偏置照明;