射频磁控溅射制备的ZnMgO薄膜结构和光学性能

黄秋柳; 方亮; 郭北斗; 阮海波; 吴芳; 孔春阳

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射频磁控溅射制备的ZnMgO薄膜结构和光学性能

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采用射频磁控溅射法,在石英衬底上制备了Zn1-xMgxO(x=0.00～0.16)薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计和光致发光(PL)光谱等分析了薄膜的结构、形貌和光学特性。结果表明:当x≤0.10时薄膜保持六角纤锌矿结构,而x=0.16时已出现MgO立方相;所有薄膜晶粒大小均匀,在100～150 nm之间;透光率在80%以上;薄膜带隙Eg与Mg含量呈线性关系;薄膜PL谱由较弱的紫外发光峰和较强的可见发光带组成,随Mg含量的增加紫外发光峰蓝移。

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来源
《光电子．激光》 |2010年第7期|1021-1025|共5页
作者
黄秋柳; 方亮; 郭北斗; 阮海波; 吴芳; 孔春阳;
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作者单位

重庆大学应用物理系;

重庆400044;

重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室;

重庆400044;

重庆师范大学应用物理系;

重庆400047;

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正文语种 chi
中图分类薄膜的性质;
关键词
ZnMgO; ZnO; 晶体结构; 光学性能; 磁控溅射;

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