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边缘增锐型相移光刻技术的研究及其数值模拟

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相移光刻技术可以提高光刻设备的分辨率，为制作二元光学器件及超大规模集成电路提供了更强的技术力量，本文简单介绍相移光刻技术的基本原理，用自编的软件通过数值模拟对边缘增锐相移光刻技术做了探讨，给出了适合国内ｇ－线投曝光机的边缘增锐型相移掩模的设计参数。

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来源
《光电子．激光》 |1995年第3期|183-186|共4页
作者
周静; 徐大雄;
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作者单位

不详;

不详;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类光刻、掩膜;
关键词
相移光刻技术; 边缘增锐型; 光学器件;

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