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X射线光刻技术制作深亚微米T型栅的实用化研究

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本文首先简要介绍了国际上X射线光刻技术在GaAs器件及电路制造中的研究进展情况,再对目前国内X射线光刻技术的研究状况进行了较为详细的介绍,其中重点论述了深亚微米X射线掩模的研制、深亚微米X射线光刻系统的优化设计、掩模形变的模拟与控制、高精度对准技术、深亚微米T型栅工艺等方面研究状况,最后对X射线光刻技术在国内的实用化研究进行了简要分析.

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来源
《第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议》|2002年|234-239|共6页
会议地点厦门
作者
谢常青; 陈大鹏; 李兵; 孙加兴; 赵玲利; 胥兴才; 叶甜春;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
X射线光刻; X射线掩模; 掩模形变; 深亚微米T型栅; 光刻技术; 半导体器件;

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