O_2压对脉冲激光沉积ZnO薄膜性能的影响

滕晓云; 刘彩池; 郝秋艳; 张丽; 许贺菊; 于威

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O_2压对脉冲激光沉积ZnO薄膜性能的影响

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摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)法在Al2O3(0002)衬底上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜。用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、霍尔电导测量和透射光谱等表征技术研究了工作O2压对ZnO薄膜的结晶特性、电学和光学性能的影响。研究结果显示:在133×10-1～266×10-2Pa内,ZnO薄膜的晶粒尺度随工作O2压的增加而增加,晶体结构趋于完整,表面更加平整;当工作O2压为266×10-1Pa时,ZnO薄膜的表面粗糙度有所增加,薄膜的结晶质量恶化;工作O压的不同导致ZnO薄膜的电学、光学特性的变化。

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来源
《光电子．激光》 |2007年第9期|1058-1060|共3页
作者
滕晓云; 刘彩池; 郝秋艳; 张丽; 许贺菊; 于威;
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作者单位

河北工业大学材料学院;

河北大学物理科学与技术学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的性质;
关键词
ZnO薄膜; O2压; 脉冲激光沉积(PLD);

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