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龚智伟;
博敏电子股份有限公司;
电镀; 深镀能力; 高纵横比;
机译:电镀-NI电镀在高纵横比TSV制造中的作用,用于3D集成和包装
机译:在SF6 / O2等离子体中高纵横比的深硅刻蚀。二。高纵横比的横向蚀刻机理
机译:SF_6 / O_2等离子体中高纵横比的深硅刻蚀。二。高纵横比的横向蚀刻机理
机译:电镀铜填充高纵横比在高密度互连印刷线路板中的盲通孔和硅晶片
机译:多层印刷线路板中镀通孔的热力学分析和疲劳寿命预测。
机译:基于深X射线光刻技术的高纵横比锥形微柱的制备
机译:沟槽接线工艺应用化学镀镍电镀,用于精细和高纵横比模式
机译:采用时间复用蚀刻 - 钝化工艺的高纵横比siC微结构深反应离子刻蚀(DRIE)
机译:高纵横比电镀结构和各向异性电镀工艺
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