分子印迹技术研究进展

著录项

• 来源
  《化学进展》 |2002年第3期|182-191|共10页
• 作者

  史瑞雪; 郭成海; 邹小红; 朱春野; 左言军; 邓云度;

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• 作者单位

  防化研究院第六研究所,北京,102205;

  防化研究院第六研究所,北京,102205;

  防化研究院第六研究所,北京,102205;

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  防化研究院第六研究所,北京,102205;

  防化研究院第六研究所,北京,102205;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 化学;
• 关键词

  分子印迹; 模拟酶; 手性拆分; 敏感材料; 固定相层析;