基于TiO2-SiO2的磁控溅射仪防护罩紫外反射膜的设计分析

刘守彬; 田汉民

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基于TiO2-SiO2的磁控溅射仪防护罩紫外反射膜的设计分析

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常见的小型等离子溅射仪是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器.针对其辉光放电,对实验人员产生隐性紫外线伤害的问题,本文介绍了基于TiO2-SiO2薄膜的紫外反射膜的设计过程.通过优化获得了380nm～400nm近紫外波段具有高反射的溅射仪防护罩紫外隔离膜的参数,得出了最优化的膜层组合,为低成本地制备性能稳定、高可见光透射,高紫外线隔离的新型溅射仪防护罩紫外隔离膜提供了参考.

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来源
《科技资讯》 |2010年第30期|16|共1页
作者
刘守彬; 田汉民;
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作者单位

南京信息职业技术学院,南京,210046;

河北工业大学信息工程学院,天津,300130;

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正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
紫外反射膜; 多层膜; 导纳特征矩阵法; 防护罩; 数值分析;

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