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InP衬底上的InGaAs/InP双沟道HEMT

         

摘要

本文讨论了一种新型HEMT沟这结构,它由InGaAs和IhP组成,利用了低电场下InGaAs的高电子迁移率和高电场下InP的高漂移速率。0.6μm和0.7μm栅长的器件上获得了1290mS/mm的高跨导和68.7GHz的f_T。研究了器件的直流和射频特性。估计有效电子饱和速率为4.2×10 ̄7cm/s。

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