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Delahoy A E; Guo S Y; Paduraru C; 范崇治;
清华大学;
机译:氢对溅射沉积Al2O3掺杂ZnO薄膜的光电特性的影响
机译:空心阴极气流溅射沉积Al掺杂Zno薄膜的电学和光学性质
机译:交替溅射沉积In2O3:Sn–ZnO:Al薄膜的光电特性的椭圆偏振光谱研究
机译:大面积沉积,直接纹理,ZnO:Al薄膜通过反应环境,空心阴极溅射
机译:通过反应溅射制备的阳离子掺杂钛双氧薄膜:合成,表征和在环境催化中的应用。
机译:ZnF2掺杂的ZnO靶在不同溅射衬底温度下沉积F掺杂的ZnO透明薄膜
机译:氢对溅射沉积al2O3掺杂ZnO薄膜光学和电学特性的影响
机译:沉积过程中O2压力对射频溅射sn掺杂In2O3薄膜性能的影响。
机译:MFMox器件应用中通过掺杂金属氧化物绝缘体控制In2O3薄膜电阻率
机译:用原子层沉积法将氧化物薄膜浸入到卤化物中的卤化物掺杂源,制造卤剂掺杂物的方法,使用原子沉积法沉积到材料上的氧化物,用原子沉积法沉积的氧化膜,用原子方法沉积的薄膜用卤化物氧化薄膜
机译:ZnO和掺杂的ZnO薄膜成核的种子层及种子层沉积方法
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