离子束溅射沉积—刻蚀作用下KDP晶体表面粗糙度研究

王泉; 刘卫国; 周顺

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离子束溅射沉积—刻蚀作用下KDP晶体表面粗糙度研究

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为了消除单点金刚石车削(SPDT)后KDP晶体表面留下的周期性小尺度波纹,文章探索采用离子束溅射沉积-刻蚀的方法对车削后KDP晶体进行抛光加工.本文主要分析了平坦化层材料的选择,溅射沉积工艺参数对KDP晶体平坦化层粗糙度的影响,并计算了平坦化层刻蚀速率从而完成了刻蚀转移.利用刻蚀转移成功地将单点金刚石车削后的表面由初始的6.54nmRMS,经过1.76nmRMS的平坦化层,最终刻蚀转移到KDP晶体表面得到1.84nmRMS的光滑表面,实验结果验证了离子束溅射沉积—刻蚀抛光方法的可行性.

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来源
《科技风》 |2018年第21期|2-313|共3页
作者
王泉; 刘卫国; 周顺;
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作者单位

西安工业大学陕西西安710021;

西安工业大学陕西西安710021;

西安工业大学陕西西安710021;

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正文语种 chi
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关键词
KDP晶体; 离子束溅射沉积; 离子束刻蚀; 表面粗糙度;

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