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一类新型的薄膜多晶硅材料与器件的制备方法及其研究现状

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本文介绍一类新型的薄膜多晶硅材料及器件的制备方法－后续退火方法并对其研究现状进行评述。对制备过程中初始材料的沉积条件，后续退火条件、以及后氢化处理等诸多环节对薄膜多晶硅材料的性能的影响进行了讨论。最后介绍了用后续退火方法制备薄膜多晶硅太阳电池及多晶硅薄膜场效应管的研究结果。

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来源
《薄膜科学与技术》 |1995年第1期|39-44|共6页
作者
于振瑞; 耿新华;
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作者单位

不详;

不详;

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正文语种 CHI
中图分类 TN304.12;
关键词
薄膜; 多晶硅; 固相晶化; 退火; 多晶硅器件;

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