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首页> 美国卫生研究院文献>Nanoscale Research Letters >Ultra-low reflectance high absorption microcrystalline silicon nanostalagmite
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Ultra-low reflectance high absorption microcrystalline silicon nanostalagmite

机译：超低反射率高吸收微晶硅纳米石

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摘要

In this work, microcrystalline silicon nanostalagmite [μc-SiNS] arrays have been successfully fabricated on glass by catalytic etching process through a template. The template, polystyrene [PS] nanospheres, with diameter and density of 30 to approximately 50 nm and 1010/cm2, respectively, was obtained by a modified nanophase separation of PS-containing block copolymer. The length of μc-SiNS could be controlled by the duration of etching time. The μc-SiNS exhibits ultra-low reflection approximately 0.3% and absorption around 99% over 300 to 800 nm in wavelength. Reflection is also suppressed for a wide range of angles of incidence in wide range of wavelength. This indicates the extensive light-trapping effect by the μc-SiNS and could possibly harvest a large amount of solar energy at infrared regime.
机译：在这项工作中，微晶硅纳米石[μc-SiNS]阵列已经通过模板的催化蚀刻工艺成功地在玻璃上制成。模板，聚苯乙烯[PS]纳米球的直径和密度分别为30至约50 nm和10 10 / cm 2 ，是通过对含PS的嵌段共聚物。 μc-SiNS的长度可以通过蚀刻时间的持续时间来控制。 μc-SiNS在300至800 nm波长范围内表现出约0.3％的超低反射率和约99％的吸收率。在宽波长范围内的宽入射角范围内，反射也得到抑制。这表明μc-SiNS具有广泛的捕光作用，并可能在红外条件下收集大量太阳能。

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